集微网音讯,7月27日,芯源微高端晶圆处理设备产业化项目开工典礼在沈阳举办。
据悉,芯源微高端晶圆处理设备产业化项目总出资5.28亿元,将分2期建造,其间一期出资2.38亿元。项目大多数都用在出产高端晶圆处理设备,包含前道涂胶/显影机及前道单片式清洗机等。项目将打造东北地区尖端的半导体专用设备研制与出产基地。
据本年3月新华社报导,芯源微董事长宗润福曾表明,总出资超5亿元的新工厂估计本年夏天能开工,2021年10月投产,到时年总产值将超10亿元。
芯源微由中科院沈阳自动化所于2002年建议创建,主要是做半导体专用设备的研制、出产和出售,产品有光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机),可用于6英寸及以下单晶圆处理(如LED芯片制作环节)及8/12英寸单晶圆处理(如集成电路制作前道晶圆加工及后道先进封装环节)。
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